IMPRESS 213/224 深紫外納秒固體激光器
簡 述：
固體深紫外激光器相對于氬離子激光器，具備更佳的壽命、穩定性，更低的能耗和熱負荷，適用7×24 工業環境運行。
品 牌：
德國 Xiton Photonics
產品型號：
- IMPRESS 213
- IMPRESS224
新聞
更多IMPRESS 213/224 深紫外納秒固體激光器
IMPRESS 213 深紫外激光器可用于FBG 刻蝕、鉆石及藍寶石打標加工等應用，213nm 波長及TEM00 模式使它可以用于小于微米的直寫加工。
固體深紫外激光器相對于氬離子激光器，具備更佳的壽命、穩定性，更低的能耗和熱負荷，適用7×24 工業環境運行。
典型應用：
• FBG 刻寫；
• 鉆石打標；
• 波長敏感處理；
• 立體光刻；
• 半導體檢測；
• 替代倍頻氬離子激光器；
• 光致發光；
IMPRESS 224
IMPRESS 224 提供介于213nm 與266nm 之間的224nm 波長輸出，滿足部分對波長有特殊要求的應用（如增強拉曼光譜、痕量氣體分析等）。
典型應用：
• FBG 刻寫；
• 波長敏感處理；
• 立體光刻；
• 顯示面板修復；
• 微加工；
• 半導體檢測；
• 替代倍頻氬離子激光器；
• 光致發光；
深紫外納秒固體激光器典型參數
IMPRESS 213 深紫外激光器可用于FBG 刻蝕、鉆石及藍寶石打標加工等應用，213nm 波長及TEM00 模式使它可以用于小于微米的直寫加工。
固體深紫外激光器相對于氬離子激光器，具備更佳的壽命、穩定性，更低的能耗和熱負荷，適用7×24 工業環境運行。
典型應用：
• FBG 刻寫；
• 鉆石打標；
• 波長敏感處理；
• 立體光刻；
• 半導體檢測；
• 替代倍頻氬離子激光器；
• 光致發光；
IMPRESS 224
IMPRESS 224 提供介于213nm 與266nm 之間的224nm 波長輸出，滿足部分對波長有特殊要求的應用（如增強拉曼光譜、痕量氣體分析等）。
典型應用：
• FBG 刻寫；
• 波長敏感處理；
• 立體光刻；
• 顯示面板修復；
• 微加工；
• 半導體檢測；
• 替代倍頻氬離子激光器；
• 光致發光；
深紫外納秒固體激光器典型參數
| 型 號 | IMPRESS 213 | IMPRESS 224 |
| 波 長 | 213 nm | 224 nm |
| 平均功率 | 150 mW | 300 mW |
| 脈 寬 | 6-8 ns | < 9 ns |
| 脈沖能量 | 15 µJ | >30 µJ |
| 重復頻率 | 1-30 kHz | 0.1-30 kHz |
| M2 因子 | < 1.6 | < 1.6 |
13810233784
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